Ausstattung
Materialsynthese
- Plasma-CVD und PVD-Beschichtungsanlagen
- Chemische und galvanische Abscheidungsprozesse
- Sol-Gel-Verfahren
- Hydrothermale Synthese
- Materialbehandlung mit YAG-Laser und CO2-Laser
Chemische Analytik
- Emissionsspektroskopie
- Energie- bzw. wellenllängendispersive Analysesysteme (EDX bzw. WDX)
- Sekundärionenmassenspektroskopie (SIMS)
- Wasserstoff-, Kohlenstoff- und Schwefelanalyse
- Thermowaagen und Volumetrie
Werkstoff- und Systemeigentschaften
- Servohydraulische und elektromechanische Materialprüfsysteme (z.T. für Hochtemperatur- und Vakuumversuche)
- Labor für Hochfrequenzermüdungsprüfung
- Kriechapparaturen
- Nanoindentierung und tribologische Untersuchungsgeräte
Strukturuntersuchungen
- Rasterelektronenmikroskopie
- Transmissionselektronenmikroskopie
- Focused Ion Beam (FIB) mit hochauflösendem REM
- Rasterkraftmikroskop (AFM)
- Rastertunnelmikroskop (STM)
- Röntgendiffraktometer (XRD)
- Raster-Raman-Spektroskopie
Aktualisiert um 12:46 am 20. Mai 2021 von jw427272